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SiC/Mo界面反应的微观结构及对Mo力学性能的影响
  • 172
  • 作者

    李长青张俊才武万良王振廷

  • 单位

    黑龙江科技学院材料科学与工程学院

  • 摘要
    采用XRD、SEM分析测试方法研究在600~1200℃和1800℃真空热处理2 h条件下SiC/Mo界面反应层微观结构,并对SiC/Mo界面反应前后Mo金属的力学性能进行比较。研究表明:在800和1000℃热处理后,Mo与SiC分解的C在表面反应生成Mo2C;在1200℃热处理后Mo表面出现了Mo2C和Mo3Si相,以亚微米颗粒状反应层结构存在;当1800℃热处理后出现了Mo5Si3、Mo5Si3C以及扩散未分解的SiC。采用EDS方法在SiC/Mo界面反应层的断口处确定出Si扩散深度大于C。在600~1200℃热处理后,SiC/Mo界面反应对Mo金属的维氏硬度和延伸率均增大,而拉伸强度改变较小。
  • 关键词

    Mo2CMo5Si3Mo5Si3C界面反应层微观结构

  • 基金项目(Foundation)
    黑龙江省教育厅科学技术研究资助项目(11513099)；
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