非平衡磁控溅射掺Cr类石墨镀层的结构分析_中国煤炭行业知识服务平台

非平衡磁控溅射掺Cr类石墨镀层的结构分析

作者

严少平蒋百灵张永宏陈迪春李洪涛
单位

安徽理工大学理学院西安理工大学材料科学与工程学院
摘要

采用非平衡磁控溅射离子镀技术,通过调节Cr靶的溅射功率,在单晶硅基片上沉积制备了一系列不同Cr含量的类石墨(Cr-GLC)镀层样品。利用Raman光谱仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子电镜(TEM)、显微硬度计分析了Cr-GLC的微观结构和显微硬度。结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Cr-GLC镀层,随Cr含量的增高,硬度逐渐降低并趋于稳定。当Cr含量小于4%时,Cr只以单质非晶态分布于非晶GLC中,Cr的掺杂降低了内应力;当Cr含量超过4%后,还有CrC_X纳米晶存在于非晶态的GLC中;镀层由C、Cr和CrC_X纳米晶粒组成非晶结构。
关键词

类石墨镀层微观结构显微硬度
基金项目(Foundation)

安徽省教育厅自然科学基金资助项目(2005kj034zd)；国家863科技攻关项目(2005AA33H010)；
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